ファインケミカルとバイオサイドの研究開発・製造

 
 
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製造設備リスト

製造設備リスト

第1工場

第1工場

第1工場は臭素化合物の生産に適した設備配置を特徴とする多目的プラントです。臭素貯蔵タンクを併設しています。

第2工場
第3工場

第3工場

第3工場はグリニア反応、水素還元、ハロゲン化、精密蒸留など様々な反応に対応した多目的プラントです。SUS、GL製のオートクレーブも有しています。原薬の製造も行っています。

第4工場

第4工場

第4工場は医薬中間体、原薬の製造を目的とした多目的プラントです。大型薄膜蒸留装置、GL製加圧濾過乾燥機、粉砕機などを備えています。

第5工場

第5工場

第5工場は50L~200Lスケールの多目的プラントです。少量の原薬の製造も行っております。小型薄膜蒸留装置を有しています。

第1工場

設備名 材質 容量 撹拌 温度 到達真空度(kPa) 備考
反応釜
  GL 1500 L 3枚後退翼 -10 ~ 140℃    
  GL 3000 L 3枚後退翼 -10 ~ 140℃    
  GL 3000 L 3枚後退翼 -10 ~ 140℃    
  GL 4000 L 3枚後退翼 -10 ~ 140℃    
  GL 5000 L 3枚後退翼 -10 ~ 140℃   単蒸留
  GL 5000 L 3枚後退翼 -10 ~ 140℃    
  GL 5000 L 3枚後退翼 -10 ~ 140℃   油水分離
  GL 5000 L 3枚後退翼 -10 ~ 140℃   単蒸留
  GL 5000 L 3枚後退翼 -10 ~ 140℃    
  GL 5000 L 3枚後退翼 -10 ~ 140℃   油水分離
  GL 5000 L 3枚後退翼 -10 ~ 140℃    
  GL 5000 L 3枚後退翼 -10 ~ 140℃   単蒸留
  GL 5000 L 3枚後退翼 -10 ~ 140℃    
蒸留設備
  GL 5000 L 3枚後退翼 170℃ 2.0 耐酸性
理論段数15段
            受器600L、3000L
ろ過器
  遠心分離機          
   アフロンコーテイング 48 インチ、
底排型
       
乾燥機
  コニカル         専用建屋
   GL 2000 L   温水循環    
   GL 4000 L   温水循環    
オプション
大量の臭素のハンドリング
酸性物質の蒸留、ろ過
臭化水素の使用、除外
臭化メチル、ブロモ酢酸の使用
イソブテンの使用

第3工場

設備名 材質 容量 撹拌 温度 到達真空度(kPa) 備考
反応釜
  GL 1500 L 3枚後退翼 -10 ~ 140℃    
  GL 2000 L 3枚後退翼 -10 ~ 140℃    
  GL 2000 L 3枚後退翼 -10 ~ 140℃   単蒸留
  GL 2000 L 3枚後退翼 -10 ~ 140℃    
  GL 5000 L 3枚後退翼 -10 ~ 140℃    
  GL 5000 L フルゾーン -10 ~ 140℃   1圧
  GL 5000 L 3枚後退翼 -10 ~ 140℃   単蒸留
  SUS 200 L フルゾーン -10 ~ 140℃   1圧
  SUS 5000 L フルゾーン -10 ~ 140℃   1圧
蒸留設備
  GL 1500 L 3枚後退翼 140℃ 2.0 耐酸性
理論段数7段
            受器500L、2000L
  SUS316 2000L アンカー翼 140℃ 2.0 理論段数20段
            受器400L、2000L
  SUS316L 1500L アンカー翼 250℃ 0.5 理論段数10段
            受器500L、500L、1000L
ろ過器
  遠心分離機          
   アフロンコーテイング 42 インチ、
底排型
       
   アフロンコーテイング 42 インチ、
底排型
       
  加圧ろ過器          
   SUS 300 L       ろ過面積 0.5m2
オプション            
グリニア反応、水添反応、ボロハイ還元
塩素ガス、アンモニア、水素の使用可能
GMP管理下での精留可能
クリーンルーム(クラス10万)
原薬製造設備

第4工場

設備名 材質 容量 撹拌 温度 到達真空度(kPa) 備考
反応釜
  GL 3000 L 3枚後退翼 冷水~温水    
  GL 5000 L 3枚後退翼 -10 ~ 120℃   単蒸留
  GL 5000 L 3枚後退翼 -10 ~ 120℃   単蒸留
  GL 5000 L 3枚後退翼 -10 ~ 120℃   油水分離
  GL 5000 L 3枚後退翼 -10 ~ 120℃   油水分離
  GL 8000 L 3枚後退翼 冷水~温水    
  SUS 5000 L パドル翼 -10 ~ 140℃    
蒸留設備
  薄膜蒸留装置     250℃ 1Pa 直径1m円盤式
フィード量200L/h
ろ過器
  遠心分離機          
   ハステロイ 48 インチ、
底排型
       
   ハステロイ 48 インチ、
底排型
       
  加圧ろ過器          
   GL 1000L       ろ過面積 1.0m2
乾燥機
  コニカル          
  GL 4000 L   温水循環   クリーンルーム
クラス10万
オプション
医薬品原体、中間体に対応
アトマイザー粉砕機(ハンマーミル)
精製水製造装置

第5工場

設備名 材質 容量 撹拌 温度 到達真空度(kPa) 備考
反応釜
  GL 100L 3枚後退翼 -10 ~ 155℃   1圧
  GL 200L 3枚後退翼 -10 ~ 160℃    
  GL 200L 3枚後退翼 -10 ~ 160℃    
  SUS 50L 3枚後退翼 -10 ~ 160℃    
  SUS 200L 3枚後退翼 -10 ~ 160℃    
蒸留設備
  GL 50L 3枚後退翼 -10 ~ 160℃ 0.4kPa 不規則充填物
            受器10L、20L
  SUS 50L 3枚後退翼 -10 ~ 160℃ 0.4kPa 不規則充填物
            受器10L、20L
  薄膜蒸留装置     260℃ 1.0Pa 直径0.4m円盤式 
フィード量50L/h
ろ過器
  遠心分離機          
   アフロンコーテイング 24 インチ、
上排型
      クリーンルーム
クラス10万
乾燥機            
  棚段式乾燥機          
   セラミックコート     温水循環   クリーンルーム
クラス10万
オプション
少量生産用プラント
全設備が切り換え容易な仕様
スケールアップ試作も可能

※2工場は専用工場

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