製造設備リスト

第1工場は臭素化合物の生産に適した設備配置を特徴とする多目的プラントです。臭素貯蔵タンクを併設しています。

第2工場はイソチアゾリン系殺菌剤の専用工場です。塩素化から製品の小分け充填、使用溶媒の回収蒸留まで一貫して対応しています。　

※第2工場は専用工場

第3工場はグリニア反応、水素還元、ハロゲン化、精密蒸留など様々な反応に対応した多目的プラントです。SUS、GL製のオートクレーブも有しています。

第4工場は原薬製造を目的とした多目的プラントです。熱媒加熱SUS精留設備、ＧＬ製加圧濾過乾燥機などの特徴的な設備を保有しています。

第5工場は50L～200Lスケールの多目的プラントです。少量の原薬の製造も行っております。小型薄膜蒸留装置を有しています。

第1工場

設備名	材質	容量	撹拌	温度	到達真空度（kPa）	備考
反応釜
	GL	1500 L	3枚後退翼	-10 ～ 140℃
	GL	3000 L	3枚後退翼	-10 ～ 140℃
	GL	3000 L	3枚後退翼	-10 ～ 140℃
	GL	4000 L	3枚後退翼	-10 ～ 140℃
	GL	5000 L	3枚後退翼	-10 ～ 140℃		単蒸留
	GL	5000 L	3枚後退翼	-10 ～ 140℃
	GL	5000 L	3枚後退翼	-10 ～ 140℃		油水分離
	GL	5000 L	3枚後退翼	-10 ～ 140℃		単蒸留
	GL	5000 L	3枚後退翼	-10 ～ 140℃
	GL	5000 L	3枚後退翼	-10 ～ 140℃		油水分離
	GL	5000 L	3枚後退翼	-10 ～ 140℃
	GL	5000 L	3枚後退翼	-10 ～ 140℃		単蒸留
	GL	5000 L	3枚後退翼	-10 ～ 140℃
蒸留設備
	GL	5000 L	3枚後退翼	170℃	2.0	耐酸性理論段数15段
						受器600L、3000L
ろ過器
	遠心分離機
	アフロンコーテイング	48 インチ、底排型
乾燥機
	コニカル					専用建屋
	GL	2000 L		温水循環
	GL	4000 L		温水循環
オプション
大量の臭素のハンドリング酸性物質の蒸留、ろ過臭化水素の使用、除外臭化メチル、ブロモ酢酸の使用イソブテンの使用

設備名	材質	容量	撹拌	温度	到達真空度（kPa）	備考
反応釜
	GL	1500 L	3枚後退翼	-10 ～ 140℃
	GL	2000 L	3枚後退翼	-10 ～ 140℃
	GL	2000 L	3枚後退翼	-10 ～ 140℃		単蒸留
	GL	2000 L	3枚後退翼	-10 ～ 140℃		油水分離
	GL	5000 L	3枚後退翼	-10 ～ 140℃
	GL	5000 L	フルゾーン	-10 ～ 140℃		1圧
	GL	5000 L	3枚後退翼	-10 ～ 140℃		単蒸留
	SUS	200 L	フルゾーン	-10 ～ 140℃		1圧
	SUS	5000 L	フルゾーン	-10 ～ 140℃		1圧
蒸留設備
	GL	1500 L	3枚後退翼	140℃	2.0	耐酸性理論段数7段
						受器500L、2000L
	SUS316	2000L	アンカー翼	140℃	2.0	理論段数20段
						受器400L、2000L
ろ過器
	遠心分離機
	アフロンコーテイング	42 インチ、底排型
	アフロンコーテイング	42 インチ、底排型
	加圧ろ過器
	SUS	300 L				ろ過面積　0.5m2
オプション
グリニア反応、水添反応、ボロハイ還元塩素ガス、アンモニア、水素の使用可能

設備名	材質	容量	撹拌	温度	到達真空度（kPa）	備考
反応釜
	GL	3000 L	3枚後退翼	冷水～温水
	GL	5000 L	3枚後退翼	-10 ～ 120℃		単蒸留
	GL	5000 L	3枚後退翼	-10 ～ 120℃		単蒸留
	GL	5000 L	3枚後退翼	-10 ～ 120℃		油水分離
	GL	5000 L	3枚後退翼	-10 ～ 120℃		油水分離
	GL	8000 L	3枚後退翼	冷水～120℃
	SUS	5000 L	パドル翼	-10 ～ 140℃		単蒸留
	SUS	5000 L	パドル翼	-10～140℃		単蒸留
	SUS	8000 L	パドル翼	-10～140℃
	SUS	3000 L	タービン翼	-10～室温
	SUS	500 L	パドル翼	-10～室温
	SUS	5000 L	パドル翼	-10～140℃		単蒸留
蒸留設備
	SUS316L	1500 L	アンカー翼	250℃	0.5	理論段数10段受器500L、500L、1000L
ろ過器
	遠心分離機
	ハステロイ	48 インチ、底排型
	ハステロイ	48 インチ、底排型
	加圧ろ過乾燥機　帯電防止GL	2000L		～温水85℃ まで	2kPa	ろ過面積：1.5m2 処理量：約600L 材質：帯電防止GL 設置環境：クラス10万クリーンルーム
	加圧ろ過器
	GL	1000L				ろ過面積　1.0m2
乾燥機
	コニカル
	GL	4000 L		温水循環（蒸気導入可能）		クリーンルームクラス10万
オプション
原薬製造設備アトマイザー粉砕機（ハンマーミル）精製水製造装置 GMP管理下での精留

設備名	材質	容量	撹拌	温度	到達真空度（kPa）	備考
反応釜
	GL	100L	3枚後退翼	-10 ～ 155℃		1圧
	GL	200L	3枚後退翼	-10 ～ 160℃
	GL	200L	3枚後退翼	-10 ～ 160℃
	SUS	50L	3枚後退翼	-10 ～ 160℃
蒸留設備
	GL	50L	3枚後退翼	-10 ～ 160℃	0.4kPa	不規則充填物
						受器10L、20L
	SUS	50L	3枚後退翼	-10 ～ 160℃	0.4kPa	不規則充填物
						受器10L、20L
オプション
少量生産用プラント全設備が切り換え容易な仕様スケールアップ試作も可能

※２工場は専用工場